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光致发光光谱成像测量系统

光致发光光谱成像测量系统
产品简介
简介: 光致发光光谱成像测量系统PL(光致发光)是一种辐射复合效应。荧光光谱代表了半导体材料内部,一定的电子能级跃迁的机制,也反映了材料的性能及其缺陷。在一定波长光源
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产品介绍
简介:
光致发光光谱成像测量系统PL(光致发光)是一种辐射复合效应。荧光光谱代表了半导体材料内部,一定的电子能级跃迁的机制,也反映了材料的性能及其缺陷。在一定波长光源的激发下,电子吸收激发光子的能量,向高能级跃迁而处于激发态。PL是一种用于提供半导体材料的电学、光学特性信息的光谱技术,可以研究带隙、发光波长、结晶度和晶体结构以及缺陷信息等等。
光致发光光谱成像(PL-Mapping)测量系统用于LED外延片、半导体晶片、太阳能电池材料等在生产线上的质量控制和实验室中的产品研发检测。该系统对样品的PL谱进行Mapping二维扫描成像,扫描结果以3D方式进行显示,使检测结果更易于分析和比较。
应用领域:
LED外延片  太阳能电池材料  半导体晶片  半导体薄膜材料
性能特点:
●  Mapping结果以3D方式显示
●  大尺寸样品测量
●  样品定位
●  样品真空吸附
●  可做低温测量
●  膜厚测量
●  PLMapping测量
●  多种激光器可选
●  Mapping扫描速度:180点/秒
●  空间分辨率:50um
●  光谱分辨率:0.1nm@1200g/mm

参数规格表:

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